6N二氧化矽純度
純度 99.9999%,適用於精密拋光與研磨液配製。
純度 99.9999%,適用於精密拋光與研磨液配製。
金屬雜質 ≤1 ppb,適合對純度要求嚴格的製程。
粒徑、密度等關鍵參數可依需求調整。
01 / 材料介紹
精密拋光的基礎材料,
從選型到採購都能與我們討論。
膠體二氧化矽是將微細的二氧化矽顆粒分散於液體中的材料,可作為精密拋光研磨液的磨粒。
我們的膠體二氧化矽純度為 6N(99.9999%),將雜質含量降至最低,並可依需求客製粒徑、密度等關鍵參數。請告訴我們您的基材、製程條件及目標規格。
查看選型重點02 / 探索應用
從您的應用出發,
一起找出合適的材料規格。
應用示意 01 / 03針對小於 14 nm 製程節點的 CMP,提供超高純度二氧化矽磨粒。可依基材、配方及拋光製程選擇型號。
針對玻璃與光學表面的精加工,請提供材質、目標表面品質及製程條件,以便選擇合適的磨粒。
可依藍寶石等精密基材的用途討論材料選擇。適用性與拋光效能仍需在實際製程中驗證。
所列應用僅供參考,各型號的適用性須經評估確認。
03 / 產品
6N二氧化矽純度 99.9999%
將雜質降至最低,
規格依需求客製。
二氧化矽粒徑為 30–100 nm,粒徑變異係數 CV ≤5%,金屬雜質 ≤1 ppb。粒徑、密度等關鍵參數可依應用需求調整。
膠體二氧化矽是研磨原料;配製完成的 CMP 研磨液可能另含其他化學成分。
樣品示意產品 / 規格
純度 6N,粒徑、形狀與固含量可依製程需求客製。
6N
99.9999%
30–100 nm
可客製

CV ≤5%
粒徑均一性

可客製
顆粒形貌
≤1 ppb
將雜質含量降至最低
依型號確認
可客製
SiO2 · wt%
6N 指二氧化矽本身的純度,並非分散液的固含量。檢測方法與批次報告需個別確認。
產品 / 供應資訊
技術文件、樣品與供應條件,
重點一覽。
TDS · SDS · 批次 CoA
半導體 · 光學元件 · 藍寶石
容器 · 包裝規格 · 標示
溫度 · 保存期限 · 處理方式
樣品 · 最低訂購量 · 交期
型號選擇 · 客製服務
各型號的技術文件、經驗證的測試數據、包裝選項與供應條件需逐項確認。
04 / 工廠
瀏覽園區與廠房外觀。
工廠與生產細節將陸續更新。



05 / PONY BAZAAR 的合作方式
結合跨境採購經驗,
為您規劃先進材料的採購。
請提供拋光材料、關鍵製程條件,以及預計交貨地點。
做出採購決定前,一起討論候選型號、技術資料與樣品評估計畫。
確認訂單規格、包裝、交易條件與交付需求。
常見問題
兩者不完全相同。膠體二氧化矽是二氧化矽顆粒的分散液,可作為研磨液中的磨粒。配製完成的 CMP 研磨液則可能另含針對基材與製程選用的化學成分。請說明您需要的是研磨原料或已配製的研磨液。
可以。粒徑、密度等主要參數可依需求調整。請提供基材、製程條件及目標規格,以便討論合適的型號。
請點選「洽詢樣品」,告訴我們用途與所需數量。我們將依個案確認樣品供應、費用、配送及評估條件。
建議先確認粒徑、粒徑分布、密度、固含量、pH、穩定劑及關鍵雜質限值,並說明是否需要技術資料表(TDS)、安全資料表(SDS)及分析證明書(CoA)。各型號可提供的文件需個別確認。
價格、最低訂購量、包裝及交付條件取決於型號、數量與目的地。詢價時請一併提供,以便按實際需求確認。
從需求出發
無論是新配方、高要求的表面加工,或是材料供應,
都歡迎與我們討論您的目標。