6Nシリカ純度
精密研磨やスラリーの調製に適した純度99.9999%のシリカ。
精密研磨やスラリーの調製に適した純度99.9999%のシリカ。
高い清浄度が求められる用途に向け、金属不純物を≤1 ppbに抑えています。
粒子径や密度などの主要仕様をご要望に合わせて調整します。
01 / 材料紹介
精密研磨を支える材料。
選定から調達までご相談ください。
コロイダルシリカは、微細な二酸化ケイ素粒子を液体中に分散させたものです。精密研磨では、研磨用スラリーを調製する際の砥粒として使われます。
当社の純度6N(99.9999%)のコロイダルシリカは、不純物を極限まで低減しています。粒子径や密度などの主要仕様は調整可能です。基板の材質、工程条件、目標仕様をお知らせください。
グレード選定のポイント02 / 用途を探る
まずは用途から。
工程に合った材料仕様を検討します。
用途別イメージ 01 / 0314 nm未満のプロセスノードのCMP向けに、超高純度のシリカ砥粒をご提案します。基板、配合、研磨工程に合わせてグレードを選定します。
ガラスや光学面の仕上げに用いる砥粒を検討します。材料、目標とする表面品質、工程条件をお知らせください。
サファイアなどの精密基板について、用途別にご相談いただけます。適合性と研磨性能は、お客様の実際の工程でご評価ください。
掲載した用途は一例です。各グレードの適合性は評価によりご確認ください。
03 / 製品
6Nシリカ純度 99.9999%
不純物を極限まで低減。
用途に応じた仕様に調整。
シリカ粒子の粒子径は30–100 nm、粒子径の変動係数はCV ≤5%、金属不純物は≤1 ppbです。粒子径や密度などの主要仕様は、用途に合わせて調整できます。
コロイダルシリカは研磨材原料です。配合済みのCMPスラリーには、用途に応じてほかの成分が含まれる場合があります。
サンプルのイメージ製品 / 仕様
純度6N。粒子径、形状、固形分濃度をお客様の工程に合わせて調整します。
6N
99.9999%
30–100 nm
調整可能

CV ≤5%
粒子径の均一性

調整可能
粒子の形態
≤1 ppb
不純物を極限まで低減
グレードによる
調整可能
SiO2 · wt%
6Nはシリカ自体の純度を表し、分散液の固形分濃度ではありません。試験方法とロット別の分析報告書は個別に確認します。
製品 / お取引の詳細
技術資料、サンプル、供給条件。
ご相談いただける内容をご紹介します。
TDS・SDS・ロット別CoA
半導体・光学部品・サファイア
容器・包装単位・ラベル
温度・保存期間・取り扱い
サンプル・最小発注量・納期
グレード選定・仕様調整
グレード別の資料、検証済み試験データ、包装仕様、供給条件は個別に確認します。
04 / 工場
工場の敷地と建物をご覧ください。
工場と生産に関する詳細は順次ご案内します。



05 / PONY BAZAARの進め方
国際調達の経験を生かし、
先端材料のご要望にお応えします。
研磨する材料、工程で重視する点、納入先をお知らせください。
採用の前に、候補グレード、技術資料、サンプル評価の進め方を検討します。
ご注文の仕様、包装、取引条件、納入要件を確認します。
よくあるご質問
厳密には異なります。コロイダルシリカはシリカ粒子の分散液で、スラリーの砥粒として使えます。配合済みCMPスラリーには、基板と工程に応じた薬剤を加える場合があります。研磨材原料と配合済み研磨液のどちらをお探しか、お知らせください。
はい。粒子径や密度などをお客様の要件に合わせて調整できます。基板の材質、工程条件、目標仕様を踏まえて、適したグレードをご提案します。
「サンプルの相談」から、用途とご希望の数量をお知らせください。在庫の有無、費用、配送、評価条件はお問い合わせごとに確認します。
粒子径、粒度分布、密度、固形分濃度、pH、安定剤、重要な不純物の上限値をご確認ください。技術データシート(TDS)、安全データシート(SDS)、分析証明書(CoA)のご要望もお知らせください。提供可能な資料は候補グレードごとに確認します。
価格、最小発注量、包装、納入条件は、グレード、数量、納入先によって変わります。お問い合わせの際にお知らせいただくと、ご要望に沿った条件を検討できます。
ご相談はこちらから
新しい配合、仕上げの難しい表面、安定した調達。
取り組んでいる課題をお聞かせください。